সিলিকন ওয়েফার কোর

সিলিকন ওয়েফার কোর

আমাদের সিলিকন ওয়েফার সমাধানগুলি পারমাণবিক স্তর থেকে স্থাপিত হয়, উন্নত ব্যবহার করেCzochralski (CZ)এবংফ্লোট জোন (FZ)একটি অতি-বিশুদ্ধ, ত্রুটি-মুক্ত জালি কাঠামো নিশ্চিত করতে স্ফটিক বৃদ্ধির পদ্ধতি। থেকে সম্পূর্ণ শিল্প স্পেকট্রাম সমর্থন2-ইঞ্চি (50 মিমি) থেকে 12-ইঞ্চি (300 মিমি), এই সাবস্ট্রেটগুলি জটিল এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধি এবং উচ্চ-ডোজ আয়ন ইমপ্লান্টেশনের জন্য একটি উচ্চ-অখণ্ডতা হোস্ট হিসাবে কাজ করে।

আমরা ইন্টারস্টিশিয়াল অক্সিজেন এবং কার্বন সামগ্রীর জন্য একটি আক্রমনাত্মক থ্রেশহোল্ড বজায় রাখি, যা তাপীয় স্থিতিশীলতা নিশ্চিত করার জন্য এবং সবচেয়ে উদ্বায়ী উচ্চ- ভ্যাকুয়াম অ্যানিলিং চক্রের সময় বৃষ্টিপাত রোধ করার জন্য গুরুত্বপূর্ণ। অপ্টিমাইজ করেগ্লোবাল এবং সাইট-নির্দিষ্ট সমতলতা (টিটিভি এবং এসএফকিউআর), আমাদের ওয়েফারগুলি উন্নত সাব-মাইক্রোন ফটোলিথোগ্রাফিতে ফোকাস (DOF) এর একটি বর্ধিত গভীরতার-সুবিধা দেয়, যা সরাসরি আপনার চূড়ান্ত ডিভাইসের উৎপাদনে একটি উল্লেখযোগ্য উন্নতির সাথে সম্পর্কযুক্ত।

গরম ট্যাগ: সিলিকন ওয়েফার কোর, চীন সিলিকন ওয়েফার কোর নির্মাতারা, সরবরাহকারী, কারখানা